(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211306237.3 (22)申请日 2022.10.25 (71)申请人 昆山福慧林智能科技有限公司 地址 215300 江苏省苏州市昆山市张浦镇 闵庄路8号5号房 (72)发明人 周金磊　 (74)专利代理 机构 上海微策知识产权代理事务 所(普通合伙) 31333 专利代理师 陶亮 (51)Int.Cl. B24B 31/116(2006.01) B24B 41/06(2012.01) B24B 49/00(2012.01) B24B 27/00(2006.01) H01F 41/02(2006.01) (54)发明名称 一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备及 流程 (57)摘要 本发明公开了一种用于磁体的磨粒流除毛 刺抛光设备及流程， 包括： 抛光机主体， 抛光机主 体内部连接有夹装结构， 抛光机主体上方连接有 抛光结构， 夹装结构一侧设置有CCD监测结构， CCD监测结构下方与抛光机主体固定连接。 该装 置通过驱动电机可带动托盘进行转动， 将待抛光 磁体放置在第一夹具上， 当驱动电机带动托盘进 行逆时针转动时， 可依次在第四夹具、 第三夹具 和第二夹 具继续放置磁体， 当第一夹具内部的磁 体抛光完成需要取出时， 第三夹具内部的磁体位 于抛光结构下方进行抛光， 使得取出已抛光磁体 和对待抛光磁体进行抛光同时进行， 节省了其中 换料的时间， 极大的提高了装置的工作效率。 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 CN 115365992 A 2022.11.22 CN 115365992 A 1.一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备， 包括： 抛光机主体 （1） ， 其特征在于： 所述抛 光机主体 （1） 内部连接有夹装结构 （2） ， 所述抛光机主体 （1） 上方连接有抛光结构 （3） ， 所述 夹装结构 （2） 一侧设置有CCD监测结构 （4） ， 所述CCD监测结构 （4） 下方与抛光机主体 （1） 固定 连接， 所述夹装结构 （2） 还 包括： 托盘 （201） ， 设置在所述抛光结构 （3） 下 方； 第一夹具 （202） ， 固定在所述 托盘 （201） 上 方； 第二夹具 （20 3） ， 固定在所述 托盘 （201） 上 方， 且位于第一夹具 （202） 一侧； 第三夹具 （204） ， 固定在所述 托盘 （201） 上 方， 且位于第二夹具 （20 3） 一侧； 第四夹具 （205） ， 固定在所述托盘 （201） 上方， 且位于第三夹具 （204） 与第一夹具 （202） 之间； 驱动电机 （20 6） ， 设置在所述抛光机主体 （1） 内部， 且上 方与所述 托盘 （201） 连接 。 2.根据权利要求1所述的一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备， 其特征在于： 所述抛 光结构 （3） 位于 夹装结构 （2） 上 方， 所述抛光结构 （3） 还 包括： 升降箱 （31） ， 设置在所述抛光机主体 （1） 内部； 升降杆 （32） ， 上 方与所述升降箱 （31） 连接； 风箱 （33） ， 上方与所述升降杆 （32） 连接； 抛光箱 （34） ， 设置在所述 风箱 （33） 下方。 3.根据权利要求1所述的一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备， 其特征在于： 所述 CCD监测结构 （4） 还 包括： 安装架 （41） ， 下 方与所述抛光机主体 （1） 连接； CCD监测仪 （42） ， 连接在所述 安装架 （41） 一侧。 4.根据权利要求1所述的一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备， 其特征在于： 所述夹 装结构 （2） 一侧设置第一控制面板 （5） ， 所述第一控制面板 （5） 一侧与抛光机主体 （1） 固定连 接。 5.根据权利要求1所述的一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备， 其特征在于： 所述第 一夹具 （202） 、 第二夹具 （20 3） 、 第三夹具 （204） 和第四夹具 （20 5） 结构相同。 6.根据权利要求2所述的一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备， 其特征在于： 所述抛 光箱 （34） 内部设置有抛光筒 （3 5） ， 所述抛光筒 （3 5） 设置有 多个。 7.根据权利要求1所述的一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备， 其特征在于： 所述第 三夹具 （204） 位于抛光箱 （34） 正下 方， 所述第四夹具 （20 5） 位于CCD监测仪 （42） 正下 方。 8.根据权利要求1所述的一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备， 其特征在于： 所述抛 光结构 （3） 一侧设置第二控制面板 （6） ， 所述第二控制面板 （6） 一侧与抛光结构 （3） 固定连 接。 9.根据权利要求8所述的一种用于磁体的磨粒流除毛刺抛光设备， 其特征在于： 所述第 二控制面板 （6） 上 方设置有显示屏 （7） ， 所述抛光机主体 （1） 下 方设置有万向轮 （8） 。 10.一种用于磁 体的磨粒流除毛刺抛光 流程， 其特征在于： S1： 产品放置在第一夹具 （202） 上， 为第一工位； S2： 工作台上的托盘 （201） 逆时针旋转90 °， 进入第二工位， 此时可在第一工位处的第四 夹具 （205） 继续放置磁体；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115365992 A 2S3： 托盘 （201） 再次逆时针旋转90 °， 进入第三工位， 位于抛光结构 （3） 正下方， 进行抛光 处理， 并在第一工位处的第三夹具 （204） 继续 放置磁体； S4： 抛光结束后， 托盘 （201） 再次逆时针旋转90 °， 进入第四工位， 位于CCD监测 结构 （4） 正下方， 进行检测， 并在第一工位处的第二夹具 （20 3） 继续放置磁体； S5： 检测完成后， 托盘 （201） 逆时针旋转90 °取出抛光后的磁体， 并在第一夹具 （202） 再 次放入待抛光磁 体。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115365992 A 3