(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202122291343.6 (22)申请日 2021.09.2 2 (73)专利权人 广州市鸿浩 光电半导体有限公司 地址 510000 广东省广州市增城区新塘镇 荔新十二路96号9幢10 3房 (72)发明人 钟兴进　何淑英　何浩梁　林玉章　 (74)专利代理 机构 广州正驰知识产权代理事务 所(普通合伙) 44536 代理人 谢如意 (51)Int.Cl. B01D 29/03(2006.01) (54)实用新型名称 一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉 积物的清洁装置 (57)摘要 本实用新型提供一种用于化学气相沉积设 备的基座去除沉积物的清洁装置， 涉及化学气相 沉积设备技术领域， 包括清洁装置本体， 所述清 洁装置本体的进水端通过法兰 连接有连接管。 本 实用新型通过在缓冲板的作用下， 可以有效地降 低水流速度， 防止水流过快对过滤网板造成损 坏， 在漏斗型槽的作用下， 可以收集过滤网板过 滤下来的异物颗粒进行收集， 同时在L型块的作 用下， 可以防止T型槽内部的水从漏斗型槽流进 第一凹槽的内部， 在收集槽块和U型拉环的配合 下， 可以将漏斗型槽内部收集的异物颗粒收集起 来， 结构简单， 使用效果好， 有效地提高了过滤网 板的使用寿命， 继而提高了清洁装置本体的使用 寿命。 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 CN 216170267 U 2022.04.05 CN 216170267 U 1.一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置， 包括清洁装置本体 （1） ， 其特征在于： 所述清洁装置本体 （1） 的进水端通过法兰连接有连接管 （2） ， 所述清洁装置本 体 （1） 的顶部通过第一螺栓螺纹连接有矩形块 （3） ， 所述矩形块 （3） 的顶部开设有T型槽 （4） ， 所述T型槽 （4） 的内部设置有过滤网板 （5） ， 所述T型槽 （4） 的内壁两侧均固定安装有缓冲板 （6） ， 所述T 型槽 （4） 的内壁底部开设有漏斗型槽 （7） ， 所述矩形块 （3） 的一侧开设有第一凹槽 （8） ， 所述第一凹槽 （8） 的底部开设有第二凹槽 （9） ， 所述矩形块 （3） 的一侧活动贯穿有收集 槽块 （10） ， 所述第一凹槽 （8） 的内部活动套接有L型块 （11） ， 所述L型块 （11） 的一侧活动贯穿 有第一固定 螺栓 （12） 。 2.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置， 其特征在于： 所述连接管 （2） 的输入端固定贯穿矩形块 （3） 靠近连接管 （2） 的一侧， 所述矩形 块 （3） 远离连接管 （2） 的一侧固定连通有 进水管。 3.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置， 其特征在于： 所述T 型槽 （4） 内壁两侧固定安装的缓冲板 （6） 之间为相互交错， 所述漏斗型槽 （7） 的内壁底部与第一凹槽 （8） 的内壁顶部相连通。 4.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置， 其特征在于： 所述收集槽块 （10） 的一侧设置有U型拉环， 且收集槽块 （10） 远离U型拉环的一 端活动套接在第二凹槽 （9） 的内部， 所述矩形块 （3） 的一侧开设有与第一固定螺栓 （12） 靠近 矩形块 （3） 一端相适配的第一螺纹槽 。 5.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置， 其特征在于： 所述T型槽 （4） 的内壁一侧活动套接有盖板 （13） ， 所述盖板 （13） 的顶部活动贯 穿有第二固定 螺栓 （14） ， 所述T型槽 （4） 的内壁两侧均开设有限位槽 （15） 。 6.根据权利要求5所述的一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置， 其特征在于： 所述T 型槽 （4） 的内壁一侧开设有与第二固定螺栓 （14） 底端相适配的第二螺纹 槽， 所述过 滤网板 （5） 的两端分别活动套接在两个限位槽 （15） 的内部 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216170267 U 2一种用于化学气相沉积设 备的基座去除沉积物的清洁装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域， 尤其涉及 一种用于化学气相沉积设 备的基座去除沉积物的清洁装置 。 背景技术 [0002]化学气相沉积设备 是一种用于统计学 领域的分析仪器。 [0003]但是现有技术中， 现有的用于化学气相沉积设备的基座沉积物清洁装置在进行使 用的时候都会配备有过滤机构， 以保证清洁装置的正常使用， 虽然用的过滤机构使用的过 滤效果较好， 但是由于水流的速度过快或者水中混有较大颗粒的原因可能会对过滤网板造 成堵塞和损坏， 从而导致用于过滤 的过滤网板使用时间降低， 继而导致清洁装置的使用寿 命降低， 因此， 需要提出新型的一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置 。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点， 在使用上， 可以有效地提 高清洁装置 本体的使用寿命。 [0005]为了实现上述目的， 本实用新型采用了如下技术方案： 一种用于化学气相沉积设 备的基座去除沉积物的清洁装置， 包括清洁装置本体， 所述清洁装置本体的进水端通过法 兰连接有连接管， 所述清洁装置本体的顶部通过第一螺栓螺纹连接有矩形块， 所述矩形块 的顶部开设有T 型槽， 所述T 型槽的内部 设置有过滤网板， 所述T 型槽的内壁两侧均固定安装 有缓冲板， 所述T型槽的内壁底部开设有漏斗型槽， 所述矩形块的一侧开设有第一凹槽， 所 述第一凹槽的底部开设有第二凹槽， 所述矩形块的一侧活动贯穿有收集槽块， 所述第一凹 槽的内部活动套接有L型块， 所述 L型块的一侧活动贯 穿有第一固定 螺栓。 [0006]优选的， 所述连接管的输入端固定贯穿矩形块靠近连接管的一侧， 所述矩形块远 离连接管的一侧固定连通有 进水管。 [0007]优选的， 所述T型槽内壁两侧固定安装的缓冲板之间为相互交错， 所述漏斗型槽的 内壁底部与第一凹槽的内壁顶部相连通。 [0008]优选的， 所述收集槽块的一侧设置有U型拉环， 且收集槽块远离U型拉环的一端活 动套接在第二凹槽的内部， 所述矩形块的一侧开设有与第一固定螺栓靠近矩形块一端相适 配的第一螺纹槽 。 [0009]优选的， 所述T型槽的内壁一侧活动套接有盖板， 所述盖板的顶部活动贯穿有第二 固定螺栓， 所述T型槽的内壁两侧均开设有限位槽 。 [0010]优选的， 所述T型槽的内壁一侧开设有与第二固定螺栓底端相适配的第二螺纹槽， 所述过滤网板的两端分别活动套接在两个限位槽的内部 。 [0011]与现有技 术相比， 本实用新型的优点和积极效果在于， [0012]1、 本实用新型中， 通过在缓冲板的作用下， 可以有效地降低水流速度， 防止水流过 快对过滤网板造成损坏， 在漏斗型槽的作用下， 可以收集过滤网板过滤下来的异物颗粒进说　明　书 1/3 页 3 CN 216170267 U 3