(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202122426577.7 (22)申请日 2021.10.09 (73)专利权人 江苏晶杰光电科技有限公司 地址 221000 江苏省徐州市邳州市经济开 发区环城北路北侧非晶产业园三期16 号厂房 (72)发明人 邹维　陈炳寺　 (74)专利代理 机构 北京和联顺知识产权代理有 限公司 1 1621 代理人 陈菊 (51)Int.Cl. B01D 29/03(2006.01) B01D 29/56(2006.01) B01D 29/94(2006.01) H02J 7/35(2006.01) (54)实用新型名称 一种晶体生产过程中废水处 理设备 (57)摘要 本实用新型公开了一种晶体生产过程中废 水处理设备， 包括处理腔体， 所述处理腔体的前 侧面设置有连接机构， 所述连接机构 由进水管、 第一连接法兰、 出水管、 第二连接法兰组成， 所述 进水管与第一连接法兰固定连接， 所述出水管与 第二连接法兰固定连接， 所述处理腔体的上方设 置有安装盖， 所述安装盖的上表 面设置有太阳能 板。 本实用新型中， 设置了清理机构、 安装盖、 太 阳能板， 清理机构可以将一级过滤单元过滤聚集 的杂质从排杂板排出， 不需要频繁清理， 使用简 单、 轻松， 安装盖， 方便后期进行安装、 拆卸， 操作 简单， 太阳能板将太阳能转化为电能， 用来为清 理电机提供能源， 使用起 来比较节能。 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 CN 215538821 U 2022.01.18 CN 215538821 U 1.一种晶体生产过程中废水处理设备， 包括处理腔体(1)， 其特征在于： 所述处理腔体 (1)的前侧面设置有连接机构(2)， 所述连接机构(2)由进水管(201)、 第一连接法兰(202)、 出水管(203)、 第二连接 法兰(204)组成， 所述进水管(201)与第一连接 法兰(202)固定连接， 所述出水管(203)与第二连接法兰(204)固定连接， 所述处理腔体(1)的上方设置有安装盖 (4)， 所述 安装盖(4)的上表面设置有太阳能板(5)； 所述处理腔体(1)的内部设置有一级过滤单元(6)、 二级过滤单元(7)、 卡合架(8)， 所述 一级过滤单元(6)的上方设置有清理机构(3)， 所述清理机构(3)由清理电机(301)、 清理体 (302)、 连接轴(303)、 防护边(304)、 排杂板(305)、 回流斜块(306)组成， 所述清理电机(301) 的输出端与连接轴(3 03)固定连接， 所述连接轴(3 03)与清理体(3 02)固定连接 。 2.根据权利要求1所述的一种晶体生产过程中废水处理设备， 其特征在于： 所述进水管 (201)位于出 水管(203)的上方， 所述二级过滤单元(7)位于一级过 滤单元(6)的下 方。 3.根据权利要求1所述的一种晶体生产过程中废水处理设备， 其特征在于： 所述卡合架 (8)与一级过 滤单元(6)相互卡 合， 所述二级过滤单元(7)与处 理腔体(1)滑动连接 。 4.根据权利要求1所述的一种晶体生产过程中废水处理设备， 其特征在于： 所述连接轴 (303)与处理腔体(1)转动连接， 所述回流 斜块(306)位于一级过 滤单元(6)的上 方。 5.根据权利要求1所述的一种晶体生产过程中废水处理设备， 其特征在于： 所述清理体 (302)位于进水 管(201)的后方， 所述 安装盖(4)位于清理体(3 02)的上方。 6.根据权利要求1所述的一种晶体生产过程中废水处理设备， 其特征在于： 所述排杂 板 (305)与处理腔体(1)固定连接， 所述防护边(3 04)位于清理体(3 02)的外侧。 7.根据权利要求1所述的一种晶体生产过程中废水处理设备， 其特征在于： 所述清理体 (302)位于回流 斜块(306)斜面的下部， 所述 二级过滤单元(7)的数量有两个。 8.根据权利要求1所述的一种晶体生产过程中废水处理设备， 其特征在于： 所述出水管 (203)位于二级过 滤单元(7)的下 方。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 215538821 U 2一种晶体生产过 程中废水 处理设备 技术领域 [0001]本实用新型涉及废水处理设备技术领域， 尤其涉及一种晶体生产过程中废 水处理 设备。 背景技术 [0002]晶体在生产的过程中， 需要对晶体进行打磨， 加工生产的过程中， 会产生废水， 废 水中含有较多的杂质， 需要使用到废水处理设备， 废水处理的方式包括物理处理、 化学处 理、 生物处理， 其中物理方法对使用较多， 物理方法包括利用各种孔径大小不同的滤材， 利 用吸附或阻隔方式， 将水中的杂质排除在外 。 [0003]现有的技术中， 在对废水进行过滤时， 常使用多层过滤单元， 逐级将废水中的杂质 进行过滤， 但是， 一级过滤单元过滤时， 由于过滤颗粒较大， 导致杂质积累较快， 需要 频繁清 理， 容易影响处 理的效率。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点， 而提出的一种晶体生产过 程中废水处 理设备。 [0005]为了实现上述目的， 本实用新型采用了如下技术方案： 一种晶体生产过程中废水 处理设备， 包括处理腔体， 所述处理腔体的前侧面设置有连接机构， 所述连接机构由进水 管、 第一连接 法兰、 出水管、 第二连接法兰组成， 所述进 水管与第一连接法兰固定连接， 所述 出水管与第二连接法兰固定连接， 所述处理腔体的上方设置有安装盖， 所述安装盖的上表 面设置有太阳能板； [0006]所述处理腔体的内部设置有一级过滤单元、 二级过滤单元、 卡合架， 所述一级过滤 单元的上方设置有清理机构， 所述清理机构由清理电机、 清理体、 连接轴、 防护边、 排杂板、 回流斜块组成， 所述清理电机的输出端与连接轴固定连接， 所述连接轴与清理体固定连接 。 [0007]作为上述 技术方案的进一 步描述： [0008]所述进水 管位于出 水管的上方， 所述二级过滤单元位于一级过 滤单元的下方。 [0009]作为上述 技术方案的进一 步描述： [0010]所述卡合架与一级过 滤单元相互卡 合， 所述二级过滤单元与处理腔体滑动连接 。 [0011]作为上述 技术方案的进一 步描述： [0012]所述连接轴与处 理腔体转动连接， 所述回流 斜块位于一级过 滤单元的上方。 [0013]作为上述 技术方案的进一 步描述： [0014]所述清理体位于进水 管的后方， 所述 安装盖位于清理体的上 方。 [0015]作为上述 技术方案的进一 步描述： [0016]所述排杂板与处 理腔体固定连接， 所述防护边 位于清理体的外侧。 [0017]作为上述 技术方案的进一 步描述： [0018]所述清理体位于回流 斜块斜面的下部， 所述 二级过滤单元的数量有两个。说　明　书 1/3 页 3 CN 215538821 U 3