(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123320282.8 (22)申请日 2021.12.27 (73)专利权人 深圳泰德半导体装备有限公司 地址 518000 广东省深圳市坪 山区坑梓街 道沙田社区新 沧海2#810 (72)发明人 孔令民　钟军勇　邵文林　朱霆　 周学慧　张凯　 (74)专利代理 机构 深圳市恒程创新知识产权代 理有限公司 4 4542 专利代理师 王韬 (51)Int.Cl. B08B 7/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 等离子清洗机 (57)摘要 本实用新型公开一种等离子清洗机， 所述等 离子清洗机包括清洗腔体、 阴极板和固定支架； 其中， 所述阴极板设于所述清洗腔体内， 所述清 洗腔体包括位于所述阴极板上方的上腔体和位 于所述阴极板下方的下腔体， 所述清洗腔体设有 进气通道， 所述进气通道与所述上腔体连通； 所 述固定支架连接所述阴极板外周边缘与清洗腔 体内壁， 相邻所述固定支架之间留有间隙， 所述 间隙连通所述上腔体和下腔体。 本实用新型技术 方案可解决现有等离子清洗机工作时腔体温度 过高的问题。 权利要求书1页 说明书5页 附图5页 CN 217094789 U 2022.08.02 CN 217094789 U 1.一种等离 子清洗机， 其特征在于， 包括： 清洗腔体， 所述清洗腔体上设有 进气通道； 阴极板， 设于所述清洗腔体内， 所述清洗腔体包括位于所述阴极板上方的上腔体和位 于所述阴极板下 方的下腔体， 所述进气通道与所述上腔体连通； 以及 固定支架， 所述固定支架连接所述阴极板外周边缘与清洗腔体内壁， 相邻所述固定支 架之间留有间隙， 所述间隙连通所述上腔体和下腔体。 2.如权利要求1所述的等离子清洗机， 其特征在于， 所述清洗腔体上还设有排气通道， 所述排气通道与所述下腔体连通， 所述 排气通道外 接有真空泵。 3.如权利要求2所述的等离子清洗机， 其特征在于， 所述进气通道包括工艺气体通道和 破真空通道。 4.如权利要求3所述的等离子清洗机， 其特征在于， 所述上腔体顶面内壁上设有通气 槽， 所述通气槽与所述工艺气体通道连通。 5.如权利要求4所述的等离子清洗机， 其特征在于， 还包括挡板， 所述挡板设于所述通 气槽下方， 所述挡板上设有通 孔， 所述通气槽内的气体通过 所述通孔向下方流动。 6.如权利要求5所述的等离子清洗机， 其特征在于， 所述固定支架包括上支架和与 所述 上支架连接的下支架， 所述阴极板设于所述上支架和下支架之间， 所述挡板连接于所述上 支架。 7.如权利要求1至6任意一项所述的等离子清洗机， 其特征在于， 所述阴极板连接有射 频电源。 8.如权利要求1至6任意一项所述的等离子清洗机， 其特征在于， 所述阴极板朝向所述 上腔体的一 面涂有陶瓷或复合陶瓷材 料。 9.如权利要求1至6任意一项所述的等离子清洗机， 其特征在于， 所述固定支架材质为 高密度陶瓷。 10.如权利要求1至6任意一项所述的等离子清洗机， 其特征在于， 所述清洗腔体材质为 不锈钢或铝。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217094789 U 2等离子清洗机 技术领域 [0001]本实用新型 涉及等离 子清洗设备技 术领域， 特别涉及一种等离 子清洗机。 背景技术 [0002]等离子清洗机是一种全新的高科技技术， 利用等离子体来达到常规清洗方法无法 达到的效果。 等离子体是物质的一种状态， 对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子 状态。 等离子体的"活性"组分包括: 离子、 电子、 原子、 活性基团、 激发态的核素(亚稳态)、 光 子等。 等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面， 从而实现清洁、 涂 覆等目的。 [0003]等离子体清洗技术结合了等离子体物理、 等离子体化学和气固两相界面反应， 可 以有效清除残留在材料表面的有机污染物， 并保证材料 的表面及本体特性不受影响， 等离 子体清洗是一种干式工艺， 由于采用电能催化反应， 电子的碰撞会对清洗电极产生加热现 象， 使清洗腔体内的温度升高。 [0004]由于阴极板与清洗物料距离较近， 会对清洗物料被动加热， 清洗物料的温度越高 破真空时与空气中氧气反应的机率越大， 导 致物料处 理效果不佳， 甚至会 对物料造成损害。 实用新型内容 [0005]本实用新型的主要目的是提供一种等离子清洗机， 旨在 解决现有等离子清洗机工 作时腔体温度过高的问题。 [0006]为实现上述目的， 本实用新型提出的等离 子清洗机， 包括： [0007]清洗腔体， 所述清洗腔体上设有 进气通道； [0008]阴极板， 设于所述清洗腔体内， 所述清洗腔体包括位于所述阴极板上方的上腔体 和位于所述阴极板下 方的下腔体， 所述进气通道与所述上腔体连通； 以及 [0009]固定支架， 所述固定支架连接所述阴极板外周边缘与清洗腔体内壁， 相邻所述固 定支架之间留有间隙， 所述间隙连通所述上腔体和下腔体。 [0010]在一实施例中， 所述清洗腔体上还设有排气通道， 所述排气通道与所述下腔体连 通， 所述排气通道外 接有真空泵。 [0011]在一实施例中， 所述进气通道包括工艺气体通道和破真空通道。 [0012]在一实施例中， 所述上腔体顶面内壁上设有通气槽， 所述通气槽与所述工艺气体 通道连通。 [0013]在一实施例中， 还包括挡板， 所述挡板设于所述通气槽下方， 所述挡板上设有通 孔， 所述通气槽内的气体通过 所述通孔向下方流动。 [0014]在一实施例中， 所述固定支架包括上支架和与所述上支架连接 的下支架， 所述阴 极板设于所述上支 架和下支 架之间， 所述挡板连接 于所述上支 架。 [0015]在一实施例中， 所述阴极板连接有射频电源。 [0016]在一实施例中， 所述阴极板朝向所述上腔体的一 面涂有陶瓷或复合陶瓷材 料。说　明　书 1/5 页 3 CN 217094789 U 3