(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123320522.4 (22)申请日 2021.12.27 (73)专利权人 苏州普锐 仕精密光学 科技有限公 司 地址 215000 江苏省苏州市高新区五台山 路116号10幢 (72)发明人 彭建　裴绪杨　 (74)专利代理 机构 苏州翔远专利代理事务所 (普通合伙) 32251 专利代理师 刘计成 (51)Int.Cl. B65D 19/38(2006.01) B65D 19/44(2006.01) B08B 3/12(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种光学 预型体清洗托盘 (57)摘要 一种光学预型体清洗托盘， 包括托盘本体， 所述托盘本体上开设有定位槽， 预型体放置在所 述定位槽内， 所述定位槽的中间部位槽壁为锥形 斜面， 同时所述锥形斜面垫设在所述预型体的边 缘位置； 本方案设计的一种光学预型体清洗托 盘， 将原材料预型体放置在托盘的定位槽内， 通 过定位槽槽壁锥形斜面的设计， 使预型体最大程 度地与定位槽的槽底以及槽壁之间不接触， 从而 避免材料受到污染而影响产品质量。 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 CN 216547276 U 2022.05.17 CN 216547276 U 1.一种光学预型体清洗托盘， 其特征在于： 包括托盘本体， 所述托盘本体上开设有定位 槽， 预型体放置在所述定位槽内， 所述定位槽的中间部位槽壁为锥形斜面， 同时所述锥形斜 面垫设在所述预 型体的边 缘位置。 2.根据权利要求1所述的一种光学预型体清洗托盘， 其特征在于： 所述定位槽的顶部和 底部都为圆柱形， 槽壁均为垂直面， 同时所述预型体的正反两个圆弧面的厚度均小于所述 定位槽顶部和顶部 两个圆柱形槽体的高度。 3.根据权利要求1所述的一种光学预型体清洗托盘， 其特征在于： 所述托盘本体上开设 的定位槽有 若干个， 同时若干个定位槽均匀分布在托盘平面上。 4.根据权利要求1所述的一种光学预型体清洗托盘， 其特征在于： 所述托盘本体表面设 置有凸起的识别凸点。 5.根据权利要求1所述的一种光学预型体清洗托盘， 其特征在于： 开设在所述托盘本体 边缘部位的所述定位槽与所述 托盘本体端部之间设置有预留面。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216547276 U 2一种光学预型体清洗托盘 技术领域 [0001]本实用新型属于光学预型体清洗设备技术领域， 具体涉及一种光学预型体清洗托 盘。 背景技术 [0002]采用模造技术制造非球面玻璃透镜工艺中， 一般使用预型体作为原材料。 预型体 在加工过程中存在研磨粉残留、 异物污染等品质异常， 在 包装、 运输环节存在二次污染等品 质异常。 为保证模压后非球面 玻璃透镜的品质， 原材料在 模造前需超声波清洗， 以保证原材 料的洁净度； 传统的预型体超洗工艺， 采用人工一枚一枚夹取的方法， 效率低、 人工夹取易 碰到原材料有效径内的表面， 导致品质低下,同时常规的治 具放入预型体后， 预型体与治 具 板表面接触很容 易造成原材 料污染。 [0003]因此， 有必要设计一种光学 预型体清洗托盘来 解决上述 技术问题。 发明内容 [0004]为克服上述现有技术中的不足， 本实用新型目的在于提供一种光学预型体清洗托 盘。 [0005]为实现上述目的及其他相关目的， 本实用新型提供的技术方案是： 一种光学预型 体清洗托盘， 包括托盘本体， 所述托盘本体上开设有定位槽， 预型体放置在所述定位槽内， 所述定位槽的中间部位槽壁为锥形斜面， 同时所述锥形斜面垫设在所述预型体的边缘位 置。 [0006]优选的， 所述定位槽的顶部和底部都为圆柱形， 槽壁均为垂直面， 同时所述预型体 的正反两个圆弧面的厚度均小于所述定位槽顶部和顶部 两个圆柱形槽体的高度。 [0007]优选的， 所述托盘本体上开设的定位槽有若干个， 同时若干个定位槽均匀 分布在 托盘平面上。 [0008]优选的， 所述 托盘本体表面设置有凸起的识别凸点。 [0009]优选的， 开设在所述托盘本体边缘部位的所述定位槽与所述托盘本体端部之间设 置有预留面。 [0010]由于上述 技术方案运用， 本实用新型与现有技 术相比具有的优点如下： [0011]本方案设计的一种光学预型体清洗托盘， 将原材料预型体放置在托盘的定位槽 内， 然后统一放入清洗 设备内进 行清洗， 通过定位槽槽壁锥形斜面的设计， 使 预型体最大程 度地与定位槽的槽底以及槽壁之间不接触， 从而避免材料受到污染而影响产品质量， 托盘 整体结构设计简单巧妙， 使用方便快捷。 附图说明 [0012]图1为托盘俯视图。 [0013]图2为定位槽内部结构示 意图。说　明　书 1/2 页 3 CN 216547276 U 3